The effect of interface roughness scattering on Si SOI FinFET with Ando's and extended Prange and Nee model

  1. Nagy, D.
  2. Elmessary, M.A.
  3. Aldegunde, M.
  4. Kalna, K.
Actas:
Journal of Physics: Conference Series

ISSN: 1742-6596,  1742-6588

Ano de publicación: 2015

Volume: 647

Número: 1

Tipo: Achega congreso

DOI: 10.1088/1742-6596/647/1/012065 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso aberto editor

Obxectivos de Desenvolvemento Sustentable

Fonte de datos: Scopus