Intrinsic fluctuations induced by a high-κ gate dielectric in sub-100 nm Si MOSFETs

  1. García-Loureiro, A.J.
  2. Kalna, K.
  3. Asenov, A.
Actas:
AIP Conference Proceedings

ISSN: 0094-243X,  1551-7616

ISBN: 9780735402676

Ano de publicación: 2005

Volume: 780

Páxinas: 239-242

Tipo: Achega congreso

DOI: 10.1063/1.2036740 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus