Atomic layer deposition of Cu(i) oxide films using Cu(II) bis(dimethylamino-2-propoxide) and water
- Avila, J.R.
- Peters, A.W.
- Li, Z.
- Ortuño, M.A.
- Martinson, A.B.F.
- Cramer, C.J.
- Hupp, J.T.
- Farha, O.K.
ISSN: 1477-9234, 1477-9226
Ano de publicación: 2017
Volume: 46
Número: 18
Páxinas: 5790-5795
Tipo: Artigo