Workfunction fluctuations in polycrystalline TiN observed with KPFM and their impact on MOSFETs variability

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Revista:
Applied Physics Letters

ISSN: 0003-6951

Año de publicación: 2019

Volumen: 114

Número: 9

Tipo: Artículo

DOI: 10.1063/1.5090855 GOOGLE SCHOLAR