3D 'atomistic' simulations of dopant induced variability in nanoscale implant free In 0.75Ga 0.25As MOSFETs
- Seoane, N.
- Aldegunde, M.
- García-Loureiro, A.
- Valin, R.
- Kalna, K.
Zeitschrift:
Solid-State Electronics
ISSN: 0038-1101
Datum der Publikation: 2012
Ausgabe: 69
Seiten: 43-49
Art: Artikel