Fluctuation Sensitivity Map: A Novel Technique to Characterise and Predict Device Behaviour Under Metal Grain Work-Function Variability Effects

  1. Indalecio, G.
  2. Seoane, N.
  3. Kalna, K.
  4. Garcia-Loureiro, A.J.
Revista:
IEEE Transactions on Electron Devices

ISSN: 0018-9383

Ano de publicación: 2017

Volume: 64

Número: 4

Páxinas: 1695-1701

Tipo: Artigo

DOI: 10.1109/TED.2017.2670060 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus